Menu
CHIP Speedtest

Následná úprava expozice v grafickém editoru

16.08.2015 16:14 | Pavel Trousil
Následná úprava expozice v grafickém editoru

Podexponované nebo přeexponované snímky můžete zachránit použitím masky vrstvy v grafickém editoru GIMP. 

Otevřete v něm fotografii a klikněte na něj pravým tlačítkem myši. Z nabídky vyberte »Vrstva| Duplikovat vrstvu«. Pokud je snímek podexponovaný, změňte režim horní vrstvy v okně vrstvy z »Normální« na »Clona«. V případě přeexponování vyberte z nabídky režim vrstvy »Násobení«.

Následně přidejte vrstvu masky pomocí »Vrstva | Maska | Přidat masku vrstvy« a zvolte »Bílá (úplné krytí)«. Upravte tuto masku velkým štětcem s nízkou neprůhledností. Velikost a další parametry štětce závisí na typu obrázku. Při úpravě budete potřebovat několik pokusů, než se vám podaří dosáhnout optimálního výsledku.

Zajímavosti ze světa IT v e-mailu

Stačí odeslat svoji e-mailovou adresu


Odesláním formuláře souhlasíte se zpracováním svých osobních údajů a užitím pro marketingové účely vydavatelství Burda Praha, spol. s.r.o.

Předplatné / nákup chipu Digitální edice chipu Aktuální vydání
Oblíbená témata z článku